히팅스테이지

Heating & Cooling Stage는 시료의 온도 특성분석을 위해 -196℃~1500℃
범위에서 정밀하게 컨트롤할 수 있습니다. 또한 광학현미경, FTIR, Raman, X-ray,
UV 응용작업을 위한 다양한 Windows와 옵션을 제공합니다.


 
   
LTS120

LTS120

#Peltier heating system
#히팅 Range : -40℃ ~ 120℃
#히팅 Area : 40mm x 40mm
#히팅 Rate : Max. 30℃/min
#온도 Accuracy : 0.1℃
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LTS420

LTS420

#Large area heating system
#히팅 Range : -196℃ ~ 420℃
#히팅 Area : 53.5mm x 43mm
#히팅 Rate : Max. 40℃/min
#온도 Accuracy : <0.1℃
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THMS600

THMS600

#Standard heating system
#히팅 Range : -196℃ ~ 600℃
#히팅 Area : 22mm Diameter
#히팅 Rate : Max. 150℃/min
#온도 Accuracy : <0.1℃
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TS1000/1200/1400/1500

TS1000/1200/1500

#High temp. heating system
#히팅 Range : 상온 ~ 1000/1200/1500℃
#히팅 Area : 17D/10D/7mm Diameter
#히팅 Rate : 1℃/min ~ 200℃/min
#온도 Accuracy : 1℃
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TS1000/1200/1400/1500

TS1400XY

#High temp. heating system
#히팅 Range : 상온 ~1400℃
#히팅 Area : 5x5mm, 0.5mm thick
#히팅 Rate : 1℃/min ~ 200℃/min
#온도 Accuracy : 1℃
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CCR1000

CCR1000

#Catalyst Cell Reactor System
#히팅 Range : 상온 ~ 1000℃
#히팅 Area : 5.5mm Diameter
#히팅 Rate : 1℃/min ~ 200℃/min
#온도 Accuracy : 1℃
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CCR1000

FTIR600

#System for IR microscope and Spectroscopy
#히팅 Range : -196℃ ~ 600℃
#히팅 Area : 22mm Diameter
#히팅 Rate : Max. 150℃/min
#온도 Accuracy : <0.1℃
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CCR1000

TST350

#Tensile Stess Testing System
#히팅 Range : -196℃ ~ 350℃
#히팅 Rate : 0.01℃/min ~ 60℃/min
#인장속도 : 1~1000㎛/s
#인장력 : 0.0N to 20N or to 200N
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CCR1000

CCS450

#Optical Rheology System
#히팅 Range : 상온 ~ 450℃
#히팅 Area : 30mm Diameter
#히팅 Rate : 0.01℃/min ~ 30℃/min
#온도 Accuracy : <0.2℃
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CCR1000

DSC600

#DSC analysis System
#히팅 Range : -196℃ ~ 600℃
#히팅 Area : 30mm Diameter
#히팅 Rate : 0.1℃/min ~ 130℃/min
#온도 Accuracy : <0.1℃
#Enthalpy : <5%
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